霜垣百瀬研究室(霜垣 幸浩 教授)
所属:東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻
教員:霜垣 幸浩 教授
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研究室連絡先:霜垣 幸浩 教授 shimo_at_dpe.mm.t.u-tokyo.ac.jp
研究分野
- デバイスプロセス設計,化学気相成長(CVD),原子層成長(ALD),超臨界流体薄膜形成(SCFD),化学気相含浸(CVI)
キーワード一覧
薄膜プロセス設計・デバイス
企業との共同研究内容
多数ありますが,詳細書けません。
今後希望する企業との共同研究
薄膜作製,特にALD,CVD,ならびに超臨界流体を利用した薄膜作製(SCFD)に関することであれば,共同研究・受託研究を検討します。