霜垣百瀬研究室（霜垣 幸浩 教授）
所属：東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻
教員：霜垣 幸浩 教授
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研究室連絡先：霜垣 幸浩 教授 shimo_at_dpe.mm.t.u-tokyo.ac.jp
研究分野
- デバイスプロセス設計，化学気相成長（CVD），原子層成長（ALD），超臨界流体薄膜形成（SCFD），化学気相含浸（CVI）
キーワード一覧
薄膜プロセス設計・デバイス
企業との共同研究内容
多数ありますが，詳細書けません。
今後希望する企業との共同研究
薄膜作製，特にALD，CVD，ならびに超臨界流体を利用した薄膜作製（SCFD）に関することであれば，共同研究・受託研究を検討します。
